電鍍中水回用設(shè)備
創(chuàng)建時間:2024-11-19 13:58
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- 2024-11-19
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工藝介紹:
電鍍中水回用技術(shù),包括還原、中和、沉淀、過濾、加壓和反滲透步驟,其特征在于其中反滲透步驟安排在中和步驟之前,其工藝步驟如下:
(1)破氰:在含氰清 洗水中添加適量次氯酸鈉,以破壞-CN與金屬離子所 形成的絡(luò)合狀態(tài),使劇毒-CN被氧化,金屬離子呈游離狀態(tài);
(2)還原:含鉻清洗水添加適量焦亞硫酸鈉,將其中的Cr6+還原成Cr3+;
(3)管式微濾膜過濾:將包括含氰清洗水經(jīng)破氰、含鉻清洗水經(jīng)還原以及其它清洗水的綜合清洗水經(jīng)過管式微濾膜過濾,以除去其中0.1以上的微粒;
(4)加壓:用高壓泵加壓,使其壓力大于滲透壓;
(5)反滲透:采用中性抗污染反滲透膜脫鹽,產(chǎn)生RO水,金屬離子及其它雜質(zhì)被截留在濃水中;
(6)RO水中和:用氫氧化鈉調(diào)整RO水的pH值,達(dá)到回用的要求,替代自來水回用于電鍍清洗過程;
(7)濃水中和:用氧化鈣中和,調(diào)節(jié)其酸性,同時使其中的金屬離子與-OH生成氫氧化物,SO42-與Ca2+生成硫酸鈣;
(8)沉淀:濃水中和 后進(jìn)入沉淀池,中和過程生成的氫氧化物和硫酸鈣被沉淀,上清液過濾達(dá)標(biāo)排放,沉淀物排入污泥池。